| 品牌：泰科诺 | 型号：JCP200 | 产品别名：单靶磁控镀膜机 |
| 用途：溅射/蒸发膜层 | 适用行业：高校科研所 | 是否跨境货源：否 |
1、适用于大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。
2、 可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等；
3、镀膜示例：银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等；
4、单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。
| 型号 | JCP200 |
| 真空腔室结构 | 立式上开盖结构，下置抽气系统，手动气弹簧提开式 |
| 真空腔室尺寸 | Φ220×H300mm |
| 加热温度 | 室温～500℃ |
| 溅射方式 | 向上溅射 |
| 旋转基片台 | Φ100mm |
| 膜厚不均匀性 | Φ50mm范围内≤±5.0% |
| 溅射靶/蒸发电极 | Φ2英寸磁控靶1支，兼容DC/RF溅射 |
| 工艺气体 | 1-2路气体流量控制 |
| 控制方式 | PLC触摸屏控制 |
| 占地面积 | （主机）L600×W800×H1700mm |
