| 品牌：泰科诺 | 型号：TEMD500 | 产品别名：电子式镀膜设备 |
| 适用行业：高校科研所/企业 | 产品用途：制备导电、半导体、光学薄膜 | 是否跨境货源：否 |
1、适用：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。
2、产品特点/用途：
设备一体化设计，占地面积小，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；
适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜，也可用于生产线前期工艺试验等；
适用于制备光学薄膜、导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜等。
3、技术参数
| 型号 | TEMD500 |
| 真空腔室结构 | 立式圆柱形侧开门结构，后置抽气系统 |
| 真空腔室尺寸 | Φ500×H650mm |
| 加热温度 | 室温～300℃ |
| 旋转基片台 | 平板型Φ200mm |
| 膜厚不均匀性 | ≤±5.0% |
| 考夫曼离子源 | 可选 |
| 蒸发源 | 电子枪8KW，6穴坩埚 国产进口可选，配3-3组电阻蒸发 |
| 控制方式 | PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统 |
| 占地面积 | 长×宽 L2500×W1600mm |
| 总功率 | ≥17KW |
