| 品牌：泰科诺 | 型号：JCP350 | 产品别名：多靶磁控镀膜机 |
| 适用行业：高校科研所/企业 | 产品用途：制备单层及多层新材料膜 | 是否跨境货源：否 |
1.可提供工艺技术支持，及良好售后服务；
2.设备结构紧凑，占地面积小，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；
3.可制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜、透明导电薄膜等；
4.单靶溅射/多靶依次溅射或共同溅射，兼容DC/MF/RF溅射等功能。
| 型号 | JCP350 |
| 真空腔室结构 | 立式上开盖结构，后置抽气系统，气动提开式 |
| 真空腔室尺寸 | Φ350×H350mm |
| 加热温度 | 室温～500℃ |
| 溅射方式 | 向上溅射 |
| 旋转基片台 | Φ120mm |
| 膜厚不均匀性 | Φ75mm范围内≤±5.0% |
| 溅射靶/蒸发电极 | Φ2英寸磁控靶2支，兼容DC/RF溅射 |
| 工艺气体 | 2-3路气体流量控制 |
| 控制方式 | PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统 |
| 占地面积 | （主机）L1600×W800×H1920mm |
| 总功率 | ≥8KW |
